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高速激光熔覆
產品描述
高速激光熔覆
高速激光熔覆技術是一種基于普通激光熔覆技術，但對其熔覆效率進行升級的新型激光熔覆技術。相對于普通激光熔覆技術，高速激光熔覆的效率提升了一倍以上，熔覆層的稀釋率與熱影響區明顯降低，熔覆層質量得到進一步提升，使得激光熔覆技術的應用范圍進一步拓寬。目前，高速激光熔覆技術是替代電鍍鉻技術的較為理想的技術之一。
天元智造高速激光熔覆技術性能：
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高速激光熔覆設備 |
LC系列 |
SC系列 |
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激光功率（w） |
1000~10000 |
1000~10000 |
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熔覆效率（m2/h） |
0.2~2 |
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單層熔覆厚度（mm） |
0.1~0.5 |
0.1~1.5 |
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最小稀釋率（%） |
1 |
2 |
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最小熱影響區（mm） |
0.1 |
0.2 |
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材料種類 |
不銹鋼、模具鋼、鎳基合金、鈷基合金 |
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熔覆層硬度范圍（HRC） |
10~60 |
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天元智造高速激光熔覆技術特點：
熔覆效率高，最高可達2m2/h；
可熔覆薄涂層，涂層最小厚度達到0.1mm，在某些領域可替代污染嚴重的電鍍鉻涂層；
極低的稀釋率與極小的熱影響區，可在極為精密的零件上制備涂層；
可制備高耐磨耐腐蝕性能的涂層，例如硬質合金涂層。
高速激光熔覆
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