天元智造

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高速激光熔覆

高速激光熔覆技術是一種基于普通激光熔覆技術,但對其熔覆效率進行升級的新型激光熔覆技術。相對于普通激光熔覆技術,高速激光熔覆的效率提升了一倍以上
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產品描述
天元智造 高速激光熔覆
 
  高速激光熔覆技術是一種基于普通激光熔覆技術,但對其熔覆效率進行升級的新型激光熔覆技術。相對于普通激光熔覆技術,高速激光熔覆的效率提升了一倍以上,熔覆層的稀釋率與熱影響區明顯降低,熔覆層質量得到進一步提升,使得激光熔覆技術的應用范圍進一步拓寬。目前,高速激光熔覆技術是替代電鍍鉻技術的較為理想的技術之一。
 
  天元智造高速激光熔覆技術性能:
 

高速激光熔覆設備

LC系列

SC系列

激光功率(w)

1000~10000

1000~10000

熔覆效率(m2/h)

0.2~2

單層熔覆厚度(mm)

0.1~0.5

0.1~1.5

最小稀釋率(%)

1

2

最小熱影響區(mm)

0.1

0.2

材料種類

不銹鋼、模具鋼、鎳基合金、鈷基合金

熔覆層硬度范圍(HRC)

10~60

 
  天元智造高速激光熔覆技術特點:
  熔覆效率高,最高可達2m2/h;
  可熔覆薄涂層,涂層最小厚度達到0.1mm,在某些領域可替代污染嚴重的電鍍鉻涂層;
  極低的稀釋率與極小的熱影響區,可在極為精密的零件上制備涂層;
  可制備高耐磨耐腐蝕性能的涂層,例如硬質合金涂層。
 
高速激光熔覆
 
高速激光熔覆
高速激光熔覆
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